专利类型:实用新型
语 言:中文
申 请 号:CN02222840.3
申 请 日:20020604
申 请 人:重庆大学
申请人地址:400044 重庆市沙坪坝正街174号
公 开 日:20030820
公 开 号:CN2567892Y
代 理 人:康海燕
代理机构:重庆华科专利事务所
摘 要:硅微机械短接式微带天线,它的结构是:在单晶硅片的一侧生成有二氧化硅绝缘层,在二氧化硅绝缘层之上沉积并刻蚀有微带金属贴片;单晶硅片的另一侧粘接在接地板上,在它们之间有腐蚀出的一定厚度的空腔;在紧邻微带金属贴片的一端的单晶硅片有腐蚀出的狭缝,与空腔相通;采用金属薄片穿过狭缝,将微带金属贴片和接地板短接起来。采用本结构的优点是:可按各种阻抗值来设计微带贴片天线,无需匹配网络,便于阻抗匹配;可显著缩小天线的尺寸,天线尺寸只有1/12-1/8波长;可采用微机械工艺,进行大规模生成,成本低;可方便地与硅或砷化镓等集成电路集成到一起;还可明显减小电磁波对人体头部的辐射作用。
主 权 项:权利要求书1.硅微机械短接式微带天线,其特征在于在单晶硅片(4)的一侧生成有二氧化硅绝缘层(10),在二氧化硅绝缘层(10)之上沉积并刻蚀有微带金属贴片(1);单晶硅片(4)的另一侧粘接在接地板上,在它们之间有腐蚀出的一定厚度的空腔(7);在紧邻微带金属贴片(1)一端的单晶硅片(4)上有腐蚀出的狭缝(5),与空腔(7)相通;金属薄片(9)形成的短路片穿过狭缝(5),将微带金属贴片(1)和接地板短接起来。
关 键 词:
法律状态:授权
IPC专利分类号:H04Q7/32; H01Q1/27; H01Q13/08