利用硅纳米粒子提高光学显微成像分辨率的方法

专利类型：发明专利 

语 言：中文 

申 请 号：CN201410793880.2 

申 请 日：20141218 

发 明 人：刘丹平许亮刘松叶俊曾孝平印勇谭晓衡张玲蒋阳 

申 请 人：重庆大学 

申请人地址：400044 重庆市沙坪坝区沙坪坝正街174号 

公 开 日：20170929 

公 开 号：CN104406944B 

代 理 人：赵荣之 

代理机构：北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 

摘　　要：本发明公开了利用硅纳米粒子的等离子体色散效应提高光学显微成像分辨率的方法，包括以下步骤：待测样品预处理：在玻璃表面特定区域覆盖一层非荧光的Si纳米粒子；CCD图像采集：首先用泵浦光照射在待测样品表面，然后开启显微镜信号光，所述显微镜信号光照射在待测样品表面并发生散射，所得散射光在CCD上成像；高分辨重建：利用高斯差点扩散函数处理CCD图像得到高分辨率图像；本发明利用硅纳米粒子的等离子体色散效应提高光学显微成像分辨率，有利于在图像采集过程中获得非荧光的Si纳米粒子的高分辨率图像信息；本发明重新设计了点扩散函数，可以有效对CCD图像进行高分辨重建。 

主 权 项：利用硅纳米粒子的等离子体色散效应提高光学显微成像分辨率的方法,其特征在于,包括以下步骤：a)待测样品预处理：利用非荧光的Si纳米粒子在玻璃上制作纳米标签；b)CCD图像采集：首先用泵浦光照射在待测样品表面,然后开启显微镜信号光,所述显微镜信号光照射在待测样品表面并发生散射,所得散射光在CCD上成像；c)高分辨重建：利用高斯差点扩散函数处理步骤b)的CCD图像得到高分辨率图像；所述高斯差点扩散函数如式I所示： hDOG(u) 

关 键 词： 

法律状态：生效 

IPC专利分类号：G01N21/63