一种光谱的预处理方法

专利类型：外观设计

语言：中文

申请号：CN201811436934.4

申请日：20181128

发明人：洪明坚沈东旭董家林

申请人：重庆大学

申请人地址：400044 重庆市沙坪坝区正街174号

公开日：20190329

公开号：CN109540292A

代理人：王海凤;杨晓磊

代理机构：重庆晟轩知识产权代理事务所(普通合伙)

摘　　要：本发明涉及一种光谱的预处理方法,首先是对光谱进行去噪：将光谱输入卷积去噪层C1进行去噪,再对光谱进行基线校正：将经过C1去噪后的光谱输入基线校正层C2。本发明方法中去噪和基线校正以卷积的方式融入中,从而将预处理过程和鉴别问题转化在统一的模型框架中求解,实现了数据的自适应处理,弥补了传统方法的不足；去噪和基线校正过程中每一个卷积层中都只有一个卷积核,相比于传统的网络解释性更强,而且更容易监控卷积层的输出,以查看是否达到预期的效果。

主权项：1.一种光谱的预处理方法,其特征在于：包括如下步骤：S1：对光谱进行去噪：将光谱输入卷积去噪层C1进行去噪,所述卷积去噪层层C1的输出表示如下：其中,x1表示卷积去噪层C1的输入,xc1表示卷积去噪层C1的输出,Wc1表示卷积去噪层C1的卷积核权重；Wc1,i是卷积去噪层C1层第i个权重,nc1是Wc1的权重总数；S2：经过S1去噪后,再对光谱进行基线校正：将经过S1去噪后的光谱输入基线校正层C2,所述基线校正层C2的输出表示如下：其中,xc2表示基线校正层C2的输出,Wc2表示基线校正层C2的卷积核,Wc2,i为基线校正层C2卷积核的第i个权值,nc2表示基线校正层C2卷积核的权值个数。

关键词：

法律状态：

IPC专利分类号：G01J3/28;G01J3/02