一种基于相对高度深度线索的深度估计方法
专利类型：发明专利
语 言：中文
申 请 号：CN201310429867.4
申 请 日：20130922
申 请 人：四川虹微技术有限公司重庆大学
申请人地址：610041 四川省成都市高新区天府大道南延线天府软件园B区5座3楼
公 开 日：20140702
公 开 号：CN103903256A
代 理 人：温利平
代理机构：成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220
摘 要：本发明公开了一种基于相对高度深度线索的深度估计方法，首先通过边缘检测获得边缘图，然后通过霍夫变换判断出图像场景，根据图像场景选择相应的模板进行深度估计，获得初始深度图，从而实现多种图像场景的深度估计。此外，通过获取图像的显著图，使图像中同一深度的目标得到的深度值会不一致的情况得以改善，提高深度图准确度。同时采用联合双边滤波对初始深度图以及显著图进行滤波，使其平滑强度更好，进一步改善深度图的质量。
主 权 项：一种基于相对高度深度线索的深度估计方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）、获取初始深度图对输入的彩色图像，首先将彩色图像转换为灰度图像，然后通过边缘检测得到边缘图；对边缘图进行霍夫变换，检测直线的交叉点位置，判断出图像场景：左近右远，右近左远和下近上远；对于霍夫变换未判断出的场景，认为为下近上远场景；然后根据判断出的图像场景，选择相应的模块进行深度估计：若是下近上远模板，线轨迹追踪是在给定约束的条件下得到水平的不交叉的线轨迹图，深度赋值子模块根据线轨迹图及下近上远的顺序进行赋值；若是左近右远模板，线轨迹追踪是在给定约束的条件下得到垂直的不交叉的线轨迹图，深度赋值子模块根据线轨迹图及左近右远的顺序进行赋值；同理，若是右近左远模，线轨迹追踪是在给定约束的条件下得到垂直的不交叉的线
关 键 词：
法律状态：公开
IPC专利分类号：G06T7/00(2006.01)I