集成化的太赫兹波远场超衍射聚焦成像系统
专利类型：发明专利
语 言：中文
申 请 号：CN201811024086.6
申 请 日：20180904
申 请 人：重庆大学
申请人地址：400044 重庆市沙坪坝区正街174号
公 开 日：20190101
公 开 号：CN201811024086.6
代 理 人：包晓静
代理机构：重庆市信立达专利代理事务所(普通合伙) 50230
摘 要：本发明公开了集成化的太赫兹波远场超衍射聚焦成像系统，涉及太赫兹波成像技术领域，解决了现有的太赫兹波成像技术，虽然实现了超分辨聚焦，但均是基于近场光学原理；现有的成像技术存在焦距极小、无法动态调焦、宽度较窄、衍射效率较低的问题，其技术方案要点是：包括太赫兹波源、光泵浦、太赫兹波聚焦器件和主控制电路；所述太赫兹波源用于发射太赫兹波；所述光泵浦用于产生持续可见光后照射所述太赫兹波聚焦器件；所述太赫兹波聚焦器件用于改变所述太赫兹波的透射率；所述主控制电路用于对所述太赫兹波聚焦器件施加偏压，具有增大焦距、超衍射极限分辨率、动态调焦、增宽宽带、提高衍射效率的效果。
主 权 项：1.集成化的太赫兹波远场超衍射聚焦成像系统，其特征是：包括太赫兹波源(4)、光泵浦(1)、太赫兹波聚焦器件(2)和主控制电路(3)；所述太赫兹波源(4)用于发射太赫兹波；所述光泵浦(1)用于产生持续可见光后照射所述太赫兹波聚焦器件(2)；所述太赫兹波聚焦器件(2)用于改变所述太赫兹波的透射率，以实现所述太赫兹波远场衍射聚焦；所述主控制电路(3)用于对所述太赫兹波聚焦器件(2)施加偏压，以实现所述太赫兹波聚焦器件(2)动态调焦。
关 键 词：
法律状态：生效
IPC专利分类号：H01S1/02;H01S1/00;H;H01;H01S;H01S1;H01S1/02;H01S1/00