浏览量:0
点阵结构的位姿对材料力学性能影响的研究方法及点阵材料
专利类型：发明专利
语 言：中文
申 请 号：CN201910513020.1
申 请 日：20190614
申 请 人：重庆大学
申请人地址：400044 重庆市沙坪坝区正街174号
公 开 日：20191029
公 开 号：CN110389070A
代 理 人：高姜
代理机构：重庆项乾光宇专利代理事务所(普通合伙)
摘 要：本发明公开了一种点阵结构的位姿对其力学性能影响的研究方法,其中,研究方法包括以下步骤：s1.准备多种不同单胞位姿的点阵材料；s2.对所述点阵材料进行静态压缩实验,并从实验结果中得到的对应点阵材料应力-应变关系曲线；同时,本发明通过上述研究方法得到一种高强度点阵材料和高弹性点阵材料。
主 权 项：1.点阵结构的位姿对材料力学性能影响的研究方法,其特征在于,包括以下步骤：s1.准备多种不同单胞位姿的点阵材料；s2.对所述点阵材料进行静态压缩实验,并从实验结果中得到的对应点阵材料应力-应变关系曲线。
关 键 词：
法律状态：
IPC专利分类号：G01N3/08