用于线阵列微纳焦点X射线源的点状串列靶

专利类型：发明专利 

语 言：中文 

申 请 号：CN201410667869.1 

申 请 日：20141113 

发 明 人：周日峰李晓斌王珏陈赞 

申 请 人：重庆大学 

申请人地址：400044 重庆市沙坪坝区沙坪坝正街174号 

公 开 日：20160914 

公 开 号：CN104465277B 

代 理 人：赵荣之 

代理机构：北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 

摘　　要：本发明公开了一种用于线阵列微纳焦点X射线源的点状串列靶，包括靶基和设置在靶基上的点状串列靶点，所述点状串列靶点包括若干个点状靶点，若干个点状靶点按一定的距离间隔排列，所述靶点转化为X射线的能力远大于靶基。本发明所产生的焦斑大小仅由点状靶结构的形状和大小来决定，与电子束大小不发生直接联系，这样有利于形成稳定的、微纳尺寸的多焦点阵列，大大降低了对电子束聚焦尺寸、扫描偏转精度控制等的要求，简化了微纳射线源聚焦、偏转系统结构，降低了加工制造难度，从而降低了生产成本，为实现亚微米甚至纳米级焦点尺寸的线阵多焦点射线源提供了一条可行的路线。 

主 权 项：用于线阵列微纳焦点X射线源的点状串列靶，其特征在于：包括靶基和设置在靶基上的点状串列靶点，所述点状串列靶点包括若干个点状靶点，若干个点状靶点按一定的距离间隔排列，所述靶点转化X射线的能力远大于靶基；入射到靶面的电子束口径大于靶点长度w的尺寸2~4倍。 

关 键 词： 

法律状态：授权 

IPC专利分类号：H01J35/02(2006.01)I;A61N5/10(2006.01)I