一种基于金属条形天线阵列的反射式超衍射线聚焦器件

专利类型：发明专利 

语 言：中文 

申 请 号：CN201610824642.2 

申 请 日：20160914 

发 明 人：陈刚温中泉李语燕余安平 

申 请 人：重庆大学 

申请人地址：400030 重庆市沙坪坝区沙正街174号 

公 开 日：20161207 

公 开 号：CN106207481A 

代 理 人：康海燕 

代理机构：重庆华科专利事务所 50123 

摘　　要：一种基于金属条形天线阵列的反射式超衍射线聚焦器件，从上到下依次为金属条形天线阵列、介质层、金属膜层和基底层。金属条形天线阵列单元是由金属条形天线沿Y方向以T_y为周期排列形成的Y方向阵列结构，金属条形天线阵列单元沿X方向以周期T_x排列形成金属条形天线阵列。对于给定入射光波长λ、选择金属材料、介质层材料和金属条形天线厚度，并改变金属条长度L和宽度W，实现空间平面内反射光振幅和相位的调控，根据振幅空间分布A(x_i)和相位空间分布P(x_i)，得出的中心位置位于x_i的第i个金属条形天线的长度L_i和宽度W_i，进而对反射光实现远场超衍射线聚焦功能。本发明可突破衍射极限，实现小于衍射极限的焦斑尺寸、旁瓣峰值比低、峰值强度高。 

主 权 项：一种基于金属条形天线阵列的反射式超衍射线聚焦器件，用于实现远场超衍射线聚焦；其特征在于包括基底（1）、金属膜层（2）、介质层（3）和金属条形天线阵列（6）；所述基底（1）是厚度为t₁的介质材料；所述金属膜层（2）是厚度为t₂的金属材料膜，位于基底上；所述介质层（3）是厚度为t₃的介质膜，位于金属膜层上；所述金属条形天线阵列（6）分布于介质层上，金属条形天线阵列（6）是以介质层为参考平面建立三维坐标系，由金属条形天线阵列单元（5）沿X方向以周期T_x排列形成的金属条形天线结构阵列；所述金属条形天线阵列单元（5）是由金属条形天线（4）沿Y方向以T_y为周期排列形成的Y方向阵列结构；金属条形天线（4）是Y方向长度为L、X方向宽度为W、厚度为t₄的金属条形结构；其中在X方向位于xi的金属条形天线阵列单元，其金属条形天线长度为L_i、宽度为W_i、厚度为t₄；对于给定的线聚焦器件振幅与相位的空间分布A(x_i)与P(x_i)，根据金属条形天线长度L、宽度W与反射光振幅A(L，W)、相位P(L，W)的函数关系，得到金属条形天线长度L_i和宽度W_i与坐标x_i的关系，满足线聚焦器件实现超衍射线聚焦功能所需的器件振幅与相位的空间分布A(x_i)与P(x_i)，进而实现对反射光的实现超衍射线聚焦功能；对于给定的入射光波长λ，通过选择金属材料、介质层材料和金属条形天线厚度t₄，并改变各金属条形天线阵列单元的金属条形天线长度L和宽度W，实现空间平面内反射光振幅和相位的调控，进而对反射光实现远场超衍射线聚焦功能。 

关 键 词： 

法律状态：生效 

IPC专利分类号：H01Q15/02(2006.01)I