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一种超分辨光刻的光生成器件
专利类型：发明专利
语 言：中文
申 请 号：CN201811278502.5
申 请 日：20181030
申 请 人：重庆大学
申请人地址：400044 重庆市沙坪坝区沙坪坝沙正街174号
公 开 日：20190101
公 开 号：CN109116687A
代 理 人：唐开平
代理机构：重庆大学专利中心
摘 要：本发明公开了一种超分辨光刻的光生成器件,它由上至下依次布设透明基底层(1)、纳米狭缝或孔洞阵列结构的光栅掩模层(2)、平坦化膜层(3)和光子晶体多层膜(4)。本发明的技术效果是：将高空间频率的倏逝波传输到感光层,形成具有高深宽比、高光场强度特征的深亚波长光刻图形,突破了衍射极限约束,光传输效率高,图形均匀性好。
主 权 项：1.一种超分辨光刻的光生成器件,其特征是：由上至下依次布设透明基底层(1)、纳米狭缝或者孔洞阵列结构的光栅掩模层(2)、平坦化膜层(3)和光子晶体多层膜(4)。
关 键 词：
法律状态：
IPC专利分类号：G03F7/20