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光栅平动式光调制器及阵列
专利类型：发明专利
语 言：中文
申 请 号：CN200510020186.8
申 请 日：20050113
申 请 人：重庆大学
申请人地址：400044 重庆市沙坪坝区沙正街174号重庆大学光电工程学院
公 开 日：20050824
公 开 号：CN1658009A
代 理 人：康海燕
代理机构：重庆华科专利事务所
摘 要：本发明涉及一种光栅平动式光调制器及阵列，光调制器包括：一有绝缘层和负电极硅基底，一镀于负电极之上的底层反射面，一位于底层反射面之上，四边与悬臂梁连接而被支撑的顶层反射面，该顶层反射面被均匀蚀刻出镂空矩形槽，形成光栅，一将下拉电压加在顶层反射面与底层反射面之间的偏压施加装置。该器件是利用深度可变的矩形槽光栅对入射光的相位进行调制，具有出光效率高、调制速度快、对比度高、亮度高、均匀性好等优点，同时制造工艺简单，良品率高，有效利用面积大。
主 权 项：1.一种光栅平动式光调制器，其特征在于它包括：A.一硅基底，其上淀积刻蚀有绝缘层和负电极；B.一镀于负电极之上的底层反射面；C.一位于底层反射面之上，四边与悬臂梁连接而被支撑的顶层反射面，顶层反射面是在弹性基底上镀上金属反射物形成的，该顶层反射面被均匀蚀刻出镂空矩形槽，形成光栅，两反射面之间留有合适的间距，顶层反射面为正电极；D.使顶层反射面悬浮于底层反射面上方的悬臂梁，该悬臂梁下部支撑在硅基底上，位于在顶层反射面的四边外侧，以四角旋转对称支撑的形式与顶层反射面四边相连接，将顶层反射面支撑在底层反射面之上；E.将下拉电压加在顶层反射面与底层反射面之间的偏压施加装置，可产生不同电平、不同频率的驱动电压。
关 键 词：
法律状态：授权
IPC专利分类号：G02B26/00; G02F1/01