利用磁控溅射SiO2纳米粒子制备高亲水性PVDF滤膜的方法及其产品

专利类型：外观设计 

语 言：中文 

申 请 号：CN201810990776.0 

申 请 日：20180828 

发 明 人：王飞鹏穆朋万春香刘建华李剑黄正勇胡克林王开正赵琦 

申 请 人：重庆大学 

申请人地址：400044 重庆市沙坪坝区正街174号 

公 开 日：20181218 

公 开 号：CN109012221A 

代 理 人：武君 

代理机构：北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 

摘　　要：本发明公开了利用磁控溅射SiO2纳米粒子制备高亲水性PVDF滤膜的方法及其产品,本发明的利用磁控溅射SiO2纳米粒子提高PVDF滤膜亲水性的方法,先通过静电纺丝法制备PVDF单一纳米纤维滤膜,然后采用直流溅射在PVDF滤膜纤维表面溅射SiO2纳米粒子,采用静电纺丝法制备的PVDF纳米纤维滤膜具有一定的疏水性,通过近一步溅射SiO2纳米粒子在滤膜表面引入亲水基团从而提高滤膜亲水性。本发明制备的亲水性滤膜适用于膜蒸馏、污水处理和油水分离等领域,可增强膜抗污染能力,具有很好的实用性,其技术方案实现简单,采用简单机械设备即可实现,可重复性强。 

主 权 项：1.利用磁控溅射SiO2纳米粒子制备高亲水性PVDF滤膜的方法,其特征在于：包括如下步骤：1)采用静电纺丝的方法制备PVDF纳米纤维薄膜；2)充分干燥后在PVDF纳米纤维膜表面采用磁控溅射方法溅射SiO2纳米粒子,得到高亲水性PVDF滤膜。 

关 键 词： 

法律状态： 

IPC专利分类号：B01D69/02;B01D71/34;B01D67/00