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  • 发明人=赵文斌x
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一种常压低温化学气相沉积制备石墨烯薄膜的方法

申请号:CN201710018061.4

申请日:20170111

申请人:重庆大学

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摘要:本发明公开了一种常压低温化学气相沉积制备石墨烯薄膜的方法,该方法通过对金属基底先进行高温退火处理,再进行降温退火处理,然后通过化学气相沉积法,在金属基底表面获得石墨烯薄膜。本发明方法提高了金属基底的催化活性,从而降低了石...
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