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  • 发明人=程正学x
排序:
聚二甲基硅氧烷微流控芯片的制作方法

申请号:CN200610054308.X

申请日:20060517

申请人:重庆大学

浏览量:0
摘要:本发明提供了一种聚二甲基硅氧烷微流控芯片的制作方法,其特征在于:采用激光刻蚀制作含有通道布局信息的金属模板(1);然后用高分子聚合物胶液浇注经激光刻蚀后的金属模板(1),制得聚合物阳模(2);最后以聚二甲基硅氧烷预聚合物...
聚二甲基硅氧烷微流控芯片的制作方法

申请号:CN200610054308.X

申请日:20060517

申请人:重庆大学

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摘要:本发明提供了一种聚二甲基硅氧烷微流控芯片的制作方法,其特征在于:采用激光刻蚀制作含有通道布局信息的金属模板(1);然后用高分子聚合物胶液浇注经激光刻蚀后的金属模板(1),制得聚合物阳模(2);最后以聚二甲基硅氧烷预聚合物...
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