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一种自抑控流式双水口电磁复合浇铸装置

专利类型:发明专利 

语 言:中文 

申 请 号:CN201611245571.7 

申 请 日:20161229 

发 明 人:龙木军姜文祥陈登福段华美俞晟曹俊生徐佩喻恒松 

申 请 人:重庆大学 

申请人地址:400044 重庆市沙坪坝区沙正街174号 

公 开 日:20170531 

公 开 号:CN106735002A 

代 理 人:孔玲珑 

代理机构:重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 

摘  要:本发明公开了一种自抑控流式双水口电磁复合浇铸装置,包括结晶器、自抑浸入式双水口装置和电磁场发生装置:自抑浸入式双水口装置包括竖直设置的短式浸入式水口和长式浸入式水口,二者均呈上端开口的管形;短式浸入式水口的插入深度小于长式浸入式水口插入深度;所述的短式浸入式水口下端设有向下倾斜侧孔和抑流出钢侧孔,所述长式浸入式水口的下端开设有向下倾斜出钢侧孔;所述的电磁场发生装置包括若干电磁体,所述的电磁体沿结晶器周向布置,用以产生水平磁场并作用于上层钢水和下层钢水的交界面,以抑制上层钢水和下层钢水混合。本发明在保证铸坯质量的前提下有效抑制两种钢水在交界处的混合,从而实现了高效、高品质的复合连续浇铸。 

主 权 项:一种自抑控流式双水口电磁复合浇铸装置,包括结晶器,其特征在于,还包括自抑浸入式双水口装置和电磁场发生装置;所述的自抑浸入式双水口装置包括竖直设置的短式浸入式水口和长式浸入式水口,二者均呈上端开口的管形;所述的短式浸入式水口的插入深度小于长式浸入式水口插入深度;所述的短式浸入式水口和长式浸入式水口的下端分别开设有向下倾斜的短式浸入式出钢侧孔和长式浸入式出钢侧孔,分别用于导出上层钢水和下层钢水;所述的电磁场发生装置包括若干电磁体,所述的电磁体沿结晶器周向布置,用以产生水平磁场并作用于上层钢水和下层钢水的交界面,以抑制上层钢水和下层钢水混合。 

关 键 词: 

法律状态: 

IPC专利分类号:B22D11/041;B22D11/11