对硝基二苯乙烯类可见光光敏剂及合成方法与应用

专利类型：发明专利 

语 言：中文 

申 请 号：CN200810232880.X 

申 请 日：20081016 

发 明 人：高放杨刘峰杨龙刘小娇王建超彭华勇谢亭李红茹张胜涛 

申 请 人：重庆大学 

申请人地址：400044重庆市沙坪坝区沙坪坝正街174号 

公 开 日：20090218 

公 开 号：CN101367890 

代 理 人：郭吉安 

代理机构：重庆大学专利中心 

摘　　要：光敏剂起着吸收光并发生光反应的重要作用。含有醚键的对硝基二苯乙烯类光敏剂的合成及其应用，其紫外可见吸收的峰值达到380nm以上，半峰宽约100nm，完全满足了可见光吸收的要求，并可用于可见光聚合，其典型的化学结构通式如上，在分子结构式(I)中R基团代表苯、萘、蒽等芳香族取代基；在分子结构式(II)中，R基团表示甲基、乙基、丙基、丁基等烷基以及苯、萘、蒽等芳香族取代基，其中两个R基团是相同的。本发明通过化学修饰对硝基二苯乙烯类敏化剂，使其紫外可见吸收的峰值移至380nm以上，可作为光引发剂与其他助剂组成光敏系统用于溶液中烯类单体的可见光聚合或作为光固化材料。??全部 

主 权 项： 

关 键 词： 

法律状态： 

IPC专利分类号：C08F2/50(2006.01);C07C205/35(2006.01);C07C201/12(2006.01)