一种纳米梯度结构材料表层EBSD样品的制备方法

专利类型：发明专利

语言：中文

申请号：CN201611106563.4

申请日：20161206

发明人：朱敏黄天林吴桂林黄晓旭

申请人：重庆大学

申请人地址：400044重庆市沙坪坝区沙正街174号

公开日：20170818

公开号：CN107063786A

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摘　　要：本发明提供了一种纳米梯度结构材料表层EBSD样品的制备方法，属于电镜样品制备技术领域。本发明针对当前纳米梯度结构材料表层EBSD样品制备周期长、成本高、标定效果差、最表层信号遮挡等不足，提出了一种操作简单、快速、成本低、抛光效果好的纳米梯度结构材料表层EBSD样品的制备方法，且成功解决了纳米梯度材料最表层微米尺度区域内标定时保护层遮挡信号的问题。具体工艺为：(1)电镀；(2)砂纸研磨；(3)机械抛光；(4)短时间电解抛光。砂纸研磨之前先对样品进行电镀以保护材料表面的纳米梯度结构，然后经砂纸研磨至5000目，机械抛光至0.25μm的粒度、时间3?4分钟，最后进行短时间电解抛光，时间取该类金属正常电解抛光工艺所用时间的1/3?1/5。??全部

主权项：

关键词：

法律状态：

IPC专利分类号：G01N1/28(2006.01)I;G01N1/32(2006.01)I