对硝基二苯乙烯类近紫外光敏剂及合成方法与应用

专利类型：发明专利 

语 言：中文 

申 请 号：CN200810232879.7 

申 请 日：20081016 

发 明 人：高放杨刘峰刘小娇杨龙王建超谢亭李红茹张胜涛 

申 请 人：重庆大学 

申请人地址：400044重庆市沙坪坝区沙坪坝正街174号 

公 开 日：20090218 

公 开 号：CN101367889A 

代 理 人：郭吉安 

代理机构：重庆大学专利中心 

摘　　要：光敏剂起着吸收光并发生光反应的重要作用。含有酯键的对硝基二苯乙烯类光敏剂的合成及其应用，其紫外吸收带的峰值约为340nm，半峰宽约50nm，完全满足了近紫外吸收的要求，并可用于近紫外光聚合，其典型的化学结构通式如右所示，其中分子结构式(I)和(II)中R代表甲基、乙基、丙基、丁基或者是苯、萘、蒽等芳香族取代基。在化合物(II)中，两个R基团是相同的。本发明通过化学修饰对硝基二苯乙烯类敏化剂，使其紫外可见吸收的峰值蓝移至340nm左右，可作为光引发剂与其他助剂组成光敏系统用于溶液中烯类单体的近紫外光聚合或作为光固化材料。 

主 权 项：1.对硝基二苯乙烯类近紫外光敏剂，其典型的化学结构通式为：其中分子结构式(I)和(II)中R代表氢、甲基、乙基、丙基、丁基或者是苯、萘、蒽等芳香族取代基；在化合物(II)中，两个R基团是相同的。 

关 键 词： 

法律状态：公开 

IPC专利分类号：C08F2/46(2006.01);C07C205/42(2006.01);C07C201/12(2006.01)