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基于SOI和压电薄膜的声表面波高温应变传感器芯片及其应用结构

专利类型:实用新型 

语 言:中文 

申 请 号:CN201721158538.0 

申 请 日:20170911 

发 明 人:牟笑静窦韶旭齐梦珂 

申 请 人:重庆大学 

申请人地址:400030 重庆市沙坪坝区沙正街174号 

公 开 日:20180717 

公 开 号:CN201721158538.0 

代 理 人:顾晓玲 

代理机构:重庆市前沿专利事务所(普通合伙) 50211 

摘  要:本实用新型提出了一种基于SOI和压电薄膜的声表面波高温应变传感器芯片及其应用结构,该高温应变传感器芯片包括SOI芯片基底,SOI芯片基底具有第一表面和第二表面,在SOI芯片基底上形成有压电薄膜,在压电薄膜之上形成有叉指换能器和反射栅,在叉指换能器和反射栅上形成有绝缘保护层,在压电薄膜和绝缘保护层上有通孔分别连接至底电极和叉指换能器,在绝缘保护层上的通孔处形成有信号引出盘;并且具有或不具有如下结构:在SOI芯片基底内从SOI芯片基底底面延伸至SOI隔离层形成有应变腔室,腔室在SOI芯片基底底面和SOI芯片基底侧壁均有开口。该高温应变传感器芯片结构简单、体积小、重量轻、精度高,可应用于航空航天、石油化工、核工业等高温环境下应变参数的测量。 

主 权 项:1.一种基于SOI和压电薄膜的声表面波高温应变传感器芯片,其特征在于,包括:SOI芯片基底,所述SOI芯片基底具有第一表面和第二表面,在所述SOI芯片基底上形成有压电薄膜,在所述压电薄膜之上形成有叉指换能器和反射栅。 

关 键 词:压电薄膜;应变传感器芯片;基底;叉指换能器;绝缘保护层;基底底面;声表面波;应用结构;反射栅;通孔;本实用新型;第二表面;第一表面;高温环境;航空航天;基底侧壁;石油化工;应变参数;底电极;隔离层;体积小;应变腔;重量轻;核工业;腔室;开口;测量;延伸;应用 

法律状态:授权 

IPC专利分类号:G01B17/04;G01B17/00;H03H9/25;H03H9/00;G;H;G01;H03;G01B;H03H;G01B17;H03H9;G01B17/04;G01B17/00;H03H9/25;H03H9/00