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专利类型:发明专利
语 言:中文
申 请 号:CN201210537982.9
申 请 日:20121213
申 请 人:重庆大学
申请人地址:400044 重庆市沙坪坝区沙正街174号
公 开 日:20150916
公 开 号:CN102976628B
代 理 人:霍本俊
代理机构:北京同恒源知识产权代理有限公司 11275
摘 要:本发明涉及Te/TeO2-SiO2复合薄膜的一种新用途,即Te/TeO2-SiO2复合薄膜作为光限幅材料的应用;所述Te/TeO2-SiO2复合薄膜为SiO2颗粒之间嵌有TeO2和/或Te的复合薄膜,所述Te/TeO2-SiO2复合薄膜为TeO2-SiO2透明复合溶胶在-0.1~-1.5V下进行恒电位电化学诱导生成的复合薄膜。本发明选取不同制备电压下的Te/TeO2-SiO2复合薄膜样品进行光限幅实验,证明了Te/TeO2-SiO2复合薄膜具有较好的光限幅性能,揭示了其在光限幅方面的应用价值;因此,Te/TeO2-SiO2复合薄膜可以作为光限幅材料应用,可以将其应用于光限幅器件上。
主 权 项:Te/TeO2?SiO2复合薄膜作为光限幅材料的应用,所述Te/TeO2?SiO2复合薄膜为SiO2颗粒之间嵌有TeO2和/或Te的复合薄膜;所述Te/TeO2?SiO2复合薄膜为TeO2?SiO2透明复合溶胶在?0.1~?1.5V下进行恒电位电化学诱导生成的复合薄膜。
关 键 词:
法律状态:公开
IPC专利分类号:C03C17/34(2006.01)I