聚焦离子束刻蚀加工的光学回音壁微腔结构及方法
专利类型：发明专利
语 言：中文
申 请 号：CN201510684594.7
申 请 日：20151022
申 请 人：重庆大学
申请人地址：400044 重庆市沙坪坝区沙正街174号
公 开 日：20180724
公 开 号：CN105158851B
代 理 人：侯懋琪;侯春乐
代理机构：重庆辉腾律师事务所 50215
摘 要：一种聚焦离子束刻蚀加工的光学回音壁微腔结构，包括光纤，光纤的周向侧壁上设置有平面，平面上设置有两个环形槽，两个环形槽同圆心，两个环形槽的轴向深度相同；两个环形槽之间的实心部分形成一环形凸起，所述环形凸起的径向宽度小于纤芯直径；环形凸起与纤芯相交；所述纤芯在环形凸起轴向方向上的位置位于环形凸起的轴向跨度范围内；所述环形凸起即形成光学回音壁微腔结构。本发明的有益技术效果是：提出了一种新结构的在纤型光学回音壁微腔结构，该结构的传感灵敏度较高，同时降低了回音壁谐振腔中非线性光学现象的阈值。
主 权 项：1.一种聚焦离子束刻蚀加工的光学回音壁微腔结构，包括光纤（1），其特征在于：所述光纤（1）的周向侧壁上设置有平面，所述平面与光纤（1）轴向平行，平面与光纤（1）的纤芯之间留有间距；所述平面上设置有两个环形槽，环形槽的轴向与所述平面垂直，两个环形槽同圆心，两个环形槽的轴向深度相同；两个环形槽之间的实心部分形成一环形凸起，所述环形凸起的径向宽度小于纤芯直径；环形凸起与纤芯相交；所述纤芯在环形凸起轴向方向上的位置位于环形凸起的轴向跨度范围内；所述环形凸起即形成光学回音壁微腔结构。
关 键 词：环形凸起;回音壁;微腔结构;环形槽;纤芯;聚焦离子束刻蚀;轴向;光纤;非线性光学现象;传感灵敏度;技术效果;周向侧壁;轴向方向;同圆心;谐振腔;新结构;纤型;加工;相交;跨度
法律状态：授权
IPC专利分类号：G02B6/24(2006.01)I