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聚焦离子束工艺改性加工的光学回音壁微腔结构及方法
专利类型：发明专利
语 言：中文
申 请 号：CN201510685118.7
申 请 日：20151022
申 请 人：重庆大学
申请人地址：400044 重庆市沙坪坝区沙正街174号
公 开 日：20180724
公 开 号：CN105158854B
代 理 人：侯懋琪;侯春乐
代理机构：重庆辉腾律师事务所 50215
摘 要：一种聚焦离子束工艺改性加工的光学回音壁微腔结构，包括光纤，光纤的包层内设置有一环形区域，环形区域的折射率大于纤芯折射率；所述环形区域由聚焦离子束工艺对光纤上的相应区域进行改性而得；所述环形区域即形成光学回音壁微腔结构。本发明的有益技术效果是：提供了一种新结构的光学回音壁微腔结构，该光学回音壁微腔结构直接形成于光纤内，光纤表面无损伤。
主 权 项：1.一种聚焦离子束工艺改性加工的光学回音壁微腔结构，包括光纤（1），其特征在于：所述光纤（1）的包层内设置有一环形区域（2），所述环形区域（2）的轴向方向与光纤（1）的径向方向平行，环形区域（2）的轴向厚度大于光纤（1）的纤芯直径，环形区域（2）的径向宽度小于纤芯直径；环形区域（2）与纤芯相交；所述纤芯在环形区域（2）轴向方向上的位置位于环形区域（2）的轴向跨度范围内；所述环形区域（2）的折射率大于纤芯折射率；所述环形区域（2）由聚焦离子束工艺对光纤（1）上的相应区域进行改性而得；所述环形区域（2）即形成光学回音壁微腔结构。
关 键 词：微腔结构;回音壁;环形区域;聚焦离子束;光纤;工艺改性;纤芯折射率;光纤表面;技术效果;相应区域;直接形成;无损伤;新结构;折射率;包层;改性;加工
法律状态：授权
IPC专利分类号：G02B6/293(2006.01)I,B23K26/38(2014.01)I