含溴苯并噻唑类光敏剂及合成与应用

专利类型：发明专利 

语 言：中文 

申 请 号：CN201010281711.2 

申 请 日：20100915 

发 明 人：高放刘光华李红茹张胜涛柳猛牛兰颖 

申 请 人：重庆大学 

申请人地址：400044重庆市沙坪坝区沙正街174号 

公 开 日：20110216 

公 开 号：CN101973958A 

代 理 人：郭吉安 

代理机构：重庆大学专利中心50201 

摘　　要：含溴苯并噻唑类光敏剂及合成与应用，属于有机染料领域。其化合物的典型化学结构通式如下：其中分子结构式中R1、R2、R3、R4、R5代表溴原子或氢原子基团，且其中至少一个为溴原子基团。将溴代苯甲基磷酸二乙酯与2-甲醛苯并噻唑在碱性条件下反应，制备含溴苯并噻唑光敏剂，在近紫外和可见光照射下能够敏化产生单重态氧。??全部 

主 权 项：一种含溴苯并噻唑类光敏剂，其化合物的典型化学结构通式为：其中R1、R2、R3、R4、R5代表溴原子或氢原子基团，且其中至少一个为溴原子基团。FSA00000269641600011.TIF 

关 键 词： 

法律状态：公开 

IPC专利分类号：C07D277/64(2006.01)I;C01B13/02(2006.01)I;C07C47/54(2006.01)I;C07C45/28(2006.01)I