一种基于光刻技术的LED荧光粉的图形化方法
专利类型：发明专利
语 言：中文
申 请 号：CN201410222224.7
申 请 日：20140523
申 请 人：重庆大学
申请人地址：400044 重庆市沙坪坝区沙坪坝正街174号
公 开 日：20160914
公 开 号：CN103972368B
代 理 人：廖曦
代理机构：北京同恒源知识产权代理有限公司 11275
摘 要：本发明公开了一种基于光刻技术的LED荧光粉的图形化方法，包括以下步骤：第一步：配制含有光阻剂的荧光粉胶；第二步：制取的荧光粉胶涂覆在透光薄膜表面形成荧光粉涂层；第三步：将待印图案制成图案掩模板；第四步：将荧光粉涂层水平方向用X光线进行曝光显影处理后，获得厚薄均匀、表面平整的荧光粉涂层；再将印有图案的掩模板置于荧光粉涂层上方对准曝光后再进行显影处理后，在荧光粉涂层上形成图案；第五步：在制成的荧光粉涂层上均匀涂覆荧光粉硅胶；第六步：对荧光粉涂层进行固化处理。本发明提供了一种在荧光粉涂层上制作各种图形的方法，该方法基于光刻工艺在荧光粉涂层上制作出各种图案，丰富了LED灯的产品种类，扩大LED灯的应用范围，增强LED产品的视觉效应。
主 权 项：一种基于光刻技术的LED荧光粉的图形化方法，其特征在于：包括以下步骤：第一步：配制含有光阻剂的荧光粉胶；第二步：将制取的荧光粉胶涂覆在透光薄膜表面形成荧光粉涂层；第三步：将待印图案制成图案掩模板；第四步：将荧光粉涂层水平方向用X光线进行曝光显影处理，再将印有图案的掩模板置于荧光粉涂层上方对准曝光后再进行显影处理；第五步：在制成的荧光粉涂层上均匀涂覆荧光粉硅胶；第六步：对荧光粉涂层进行固化处理；所述含有光阻剂的荧光粉胶包括荧光粉和负性光刻胶，所述荧光粉和负性光刻胶的质量配比分别为8?25：15?30；所述荧光粉胶由荧光粉和负性光刻胶混合后经搅拌、超声分散和抽真空操作得到。
关 键 词：
法律状态：授权
IPC专利分类号：H01L33/50(2010.01)I