专利类型:发明专利
语 言:中文
申 请 号:CN201610895054.8
申 请 日:20161013
申 请 人:重庆大学
申请人地址:400030 重庆市沙坪坝区沙正街174号
公 开 日:20170301
公 开 号:CN106467977A
代 理 人:张群峰;吕良
代理机构:北京迎硕知识产权代理事务所(普通合伙) 11512
摘 要:本发明公开了一种制备Al/Bi2O3纳米含能材料复合薄膜的方法,该方法是以纳米级铝粉和三氧化二铋粉体作为沉积相,以氨基硅烷或甲基丙烯酰氧基硅烷为粘结剂,采用电泳沉积法获得分布均匀的Al/Bi2O3纳米含能材料复合薄膜。本发明方法制备的Al/Bi2O3纳米含能复合薄膜膜厚可控、组分分布均匀、附着力强、纯度高无杂质、放热性能优良、燃烧性能佳。本发明方法具有一定的普适性,对于其他微纳米粒子的定向组装都能高效率的得到形貌均匀的薄膜产品。本方法工艺条件简单,反应材料廉价,成膜速率高,适合工业成产,可广泛的应用于生物医药,军工,微机电子等众多领域,市场应用前景好。
主 权 项:一种制备Al/Bi2O3纳米含能材料复合薄膜的方法,该方法是以纳米级铝粉和三氧化二铋粉体作为沉积相,以氨基硅烷或甲基丙烯酰氧基硅烷为粘结剂,采用电泳沉积法获得分布均匀的Al/Bi2O3纳米含能材料复合薄膜。
关 键 词:复合薄膜;含能材料;制备;甲基丙烯酰氧基硅烷;三氧化二铋粉体;形貌;电泳沉积法;纳米级铝粉;微纳米粒子;氨基硅烷;薄膜产品;反应材料;放热性能;附着力强;工艺条件;燃烧性能;生物医药;市场应用;微机电子;组分分布;沉积相;高效率;普适性;粘结剂;成膜;可控;膜厚;军工;组装;应用
法律状态:
IPC专利分类号:C25D15/00