一种绘制分子片段2D投影图的方法

专利类型：发明专利

语言：中文

申请号：CN201711365367.3

申请日：20171218

申请人：重庆大学

申请人地址：400044 重庆市沙坪坝区沙正街174号

公开日：20180508

公开号：CN201711365367.3

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摘　　要：提出了一种绘制分子片段2D投影图的方法。立体选择性的成因很大一部分来自空间位阻，实际上对于复杂分子，空间位阻从几何结构很难观察出。本发明我们设计并使用了2D原子投影模型，通过不同颜色来表示手性诱导片断与纸面的距离，能够直观获知空间位阻产生的位置，使立体化学变得更加直观。

主权项：一种绘制分子片段2D投影图的方法。

关键词：空间位阻;分子片段;投影图;直观;绘制;立体选择性;复杂分子;几何结构;立体化学;手性诱导;投影模型;获知;片断;观察

法律状态：生效

IPC专利分类号：G06T11/00;G;G06;G06T;G06T11;G06T11/00