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激光吸收光谱痕量气体分析装置
专利类型：实用新型
语 言：中文
申 请 号：CN200720188325.2
申 请 日：20071121
申 请 人：重庆川仪总厂有限公司重庆大学
申请人地址：401121重庆市北部新区黄山大道61号
公 开 日：20081210
公 开 号：CN201163269Y
代 理 人：孙长龙
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
摘 要：本实用新型涉及一种激光吸收光谱气体痕量分析的装置，包括测量气室，在测量气室两端分别设有激光发射装置和激光接收装置，所述激光接收装置连接有信号处理显示装置，在所述测量气室内还设有一筒状校准气室，该校准气室端部带有校准激光发射装置和校准激光接收装置，所述校准激光发射装置连接于所述激光发射装置的光路，所述校准激光接收装置连接于信号处理显示装置，所述校准气室上还设有平衡气室内外压力的压力平衡结构。用该装置测量痕量气体其测量简单、准确，结构也大大简化，可以实现实时自校准。
主 权 项：1.一种激光吸收光谱痕量气体分析装置，包括测量气室(10)，在测量气室(10)两端分别设有激光发射装置和激光接收装置，所述激光接收装置连接有信号处理显示装置(15，16，18)，其特征在于：在所述测量气室(10)内还设有一筒状校准气室(9)，该校准气室(9)端部带有校准激光发射装置和校准激光接收装置，所述校准激光发射装置连接于所述激光发射装置的光路，所述校准激光接收装置连接于信号处理显示装置(15，16，18)，所述校准气室(9)上还设有平衡气室内外压力的压力平衡结构。
关 键 词：
法律状态：
IPC专利分类号：G01N21/39(2006.01);G06F19/00(2006.01);G02B26/08(2006.01)