一种DIBR目标图像空洞填充修复处理方法

专利类型：发明专利 

语 言：中文 

申 请 号：CN201310337601.7 

申 请 日：20130805 

发 明 人：刘然田逢春谢辉谭迎春谭伟敏李博乐黄振伟曹东华邰国钦 

申 请 人：重庆大学 

申请人地址：400044 重庆市沙坪坝区沙正街174号 

公 开 日：20150422 

公 开 号：CN103369342B 

代 理 人：张先芸 

代理机构：重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 

摘　　要：本发明提供了一种DIBR目标图像空洞填充修复处理方法，其针对左、右两侧中至少一侧相邻的非空像素点为背景像素点的“大空洞”采用了多次局部修复的特殊空洞填充修复方式，在每次进行局部修复的过程中，先通过优先级对比保证了被选定的待修补区块在背景像素分布、梯度、深度分布等方面具备更显著的参数特征，而后在通过基于SSD准则的匹配系数考量像素RGB值以及深度值的关联性来搜索匹配区块时，其搜索的目标性更强、匹配准确性更高，能够较好的保持前景物体的轮廓，避免在前景物体边缘出现伪像重叠失真现象，保证了空洞填充修复纹理的正确传播，大大减少了空洞填充修复区域与背景图像错位、断节、纹理错乱等不符合视觉心理的修复缺陷。 

主 权 项：一种DIBR目标图像空洞填充修复处理方法，其特征在于，包括如下步骤：A)获取作为修复处理对象的DIBR目标图像及其对应的深度图像，并预先设定像素跨度阈值L_big、区块行像素尺寸参数m和区块列像素尺寸参数n；B)通过对DIBR目标图像中空洞像素点的识别，检测出DIBR目标图像中的各个空洞，并记录每个空洞的横向像素最大跨度，并将所述各个空洞的横向像素最大跨度与预设的像素跨度阈值L_big进行比较，将横向像素最大跨度小于像素跨度阈值L_big的空洞标记为第a类空洞，将横向像素最大跨度大于或等于像素跨度阈值L_big的空洞标记为第b类空洞；C)通过对DIBR目标图像进行前景和背景识别，判断每个第b类空洞左、右两侧相邻的非空像素点是否为前景像素点；若存在左、右两侧相邻的非空像素点均为前景像素点的第b类空洞，将之标记为第b1类空 

关 键 词： 

法律状态：授权 

IPC专利分类号：H04N13/00(2006.01)I;G06T15/00(2011.01)I