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  • 发明人=王晓晖x
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基于变掺杂结构的透射式GaN紫外光电阴极

申请号:CN201020199764.5

申请日:20100521

申请人:重庆大学

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摘要:本实用新型公开了一种基于变掺杂结构的透射式GaN紫外光电阴极,该阴极自下而上由蓝宝石制成的阴极透射式衬底层、AlN缓冲层、变掺杂结构的p型GaN光电发射层以及Cs或Cs/O激活层组成,p型GaN光电发射层的掺杂浓度从内表...
基于变掺杂结构的透射式GaN紫外光电阴极及制作方法

申请号:CN201010179981.2

申请日:20100521

申请人:重庆大学

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摘要:本发明公开了一种基于变掺杂结构的透射式GaN紫外光电阴极及制作方法,该阴极自下而上由蓝宝石制成的阴极透射式衬底层、AlN缓冲层、变掺杂结构的p型GaN光电发射层以及Cs或Cs/O激活层组成,p型GaN光电发射层的掺杂浓度...
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