检索结果分析
- 一种离子源辅助高功率脉冲磁控溅射沉积装置
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申请号：CN201711091583.3
申请日：20171108
申请人：重庆大学
浏览量：0 - 摘要：本发明公开了一种离子源辅助高功率脉冲复合磁控溅射沉积装置，包括：真空腔室；设置在真空腔室内由偏压电源供电的用于承载和转动工件的工件转架；与真空腔室连接的真空泵；设置在真空腔室内璧安装的离子源枪、与高功率脉冲磁控溅射电源相...
- 一种铝合金干式加工用非晶刀具涂层及其制备方法
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申请号：CN201710344024.2
申请日：20170516
申请人：重庆大学
浏览量：0 - 摘要：本发明提供了一种铝合金干式加工用非晶刀具涂层，包括：复合于刀具表面的结合层，复合于所述结合层表面的过渡层，复合于所述过渡层表面的功能膜层；所述功能膜层由交替叠加设置的A层与B层组成，所述A层的层数≥1，所述B层的层数≥1...