检索结果分析
- 闹钟上使用的振动装置
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申请号：CN201220376133.5
申请日：20120731
申请人：重庆大学
浏览量：0 - 摘要：本实用新型公开了一种闹钟上使用的振动装置，包括壳体以及设置在壳体内的单元组和传动机构；所述单元组由纵向或横向排列的数个单元件组成，每一单元组对应设有一传动机构；所述传动机构包括发条、连杆机构和传动杆，所述连杆机构包括第一...
- 一种水泥混凝土抗硫酸盐腐蚀的测试方法及测试装置
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申请号：CN200810233321.0
申请日：20081211
申请人：重庆大学
浏览量：0 - 摘要：一种水泥混凝土抗硫酸盐腐蚀的测试方法及装置，它是利用电渗脉冲技术原理，促进硫酸根离子向水泥混凝土内部的扩散，快速检测水泥混凝土抗硫酸盐腐蚀性能；混凝土抗硫酸盐腐蚀能力大小以混凝土的质量变化与强度损失值进行评判。本测试方法...
- 一种水泥混凝土抗硫酸盐腐蚀的测试方法及测试装置
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申请号：CN200810233321.0
申请日：20081211
申请人：重庆大学
浏览量：0 - 摘要：一种水泥混凝土抗硫酸盐腐蚀的测试方法及装置，它是利用电渗脉冲技术原理，促进硫酸根离子向水泥混凝土内部的扩散，快速检测水泥混凝土抗硫酸盐腐蚀性能；混凝土抗硫酸盐腐蚀能力大小以混凝土的质量变化与强度损失值进行评判。本测试方法...
- 高强耐水石膏砖及其制备方法
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申请号：CN200610051112.5
申请日：20060622
申请人：重庆大学;贵州开磷磷业有限责任
浏览量：0 - 摘要：本发明公开了一种高强耐水石膏砖及其制备方法。它是用下述重量百分比配比的原料：二水石膏40～90份，水硬性胶凝材料10～60份，激发剂1～10份。经配料、磨细、过筛、混合、掺水、搅拌、振动压制或挤压成型，蒸汽养护制成。本发...
- 高强耐水石膏砖及其制备方法
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申请号：CN200610051112.5
申请日：20060622
申请人：重庆大学;贵州开磷磷业有限责任
浏览量：0 - 摘要：本发明公开了一种高强耐水石膏砖及其制备方法。它是用下述重量配比的原料：二水石膏60份～80份，水硬性胶凝材料20份～40份，激发剂1～5份。经配料、磨细、过筛、混合、掺水、搅拌、振动压制或挤压成型，蒸汽养护制成。本发明使...
- 高强耐水石膏砖及其制备方法
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申请号：CN200610051112.5
申请日：20060622
申请人：重庆大学;贵州开磷磷业有限责任
浏览量：0 - 摘要：本发明公开了一种高强耐水石膏砖及其制备方法。它是用下述重量百分比配比的原料：二水石膏40～90份，水硬性胶凝材料10～60份，激发剂1～10份。经配料、磨细、过筛、混合、掺水、搅拌、振动压制或挤压成型，蒸汽养护制成。本发...
- 一种人造血管
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申请号：CN200610054134.7
申请日：20060314
申请人：重庆大学
浏览量：0 - 摘要：本发明提出一种人造血管，在血管的管内壁设计有螺旋槽，槽沿螺旋线在内壁伸展，槽的剖面是一圆弧。此壁内表面的几何结构改变了小口径人造血管中的流场分布，使血管速度重新分配，增加壁面附近血流速度，造成人造血管壁的冲刷，在生理血流...
- 一种人造血管
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申请号：CN200610054134.7
申请日：20060314
申请人：重庆大学
浏览量：0 - 摘要：本发明提出一种人造血管，在血管的管内壁设计有螺旋槽，槽沿螺旋线在内壁伸展，槽的剖面是一圆弧。此壁内表面的几何结构改变了小口径人造血管中的流场分布，使血管速度重新分配，增加壁面附近血流速度，造成人造血管壁的冲刷，在生理血流...
- 一种人造血管
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申请号：CN200610054134.7
申请日：20060314
申请人：重庆大学
浏览量：0 - 摘要：本发明提出一种人造血管，在血管的管内壁设计有螺旋槽，槽沿螺旋线在内壁伸展，槽的剖面是一圆弧。此壁内表面的几何结构改变了小口径人造血管中的流场分布，使血管速度重新分配，增加壁面附近血流速度，造成人造血管壁的冲刷，在生理血流...
- 水化硅酸钙纳米涂料及其生产方法
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申请号：CN200510008926.6
申请日：20050225
申请人：重庆大学
浏览量：0 - 摘要：一种水化硅酸钙纳米涂料及其生产方法，含有以下按质量百分数计算含量的组分：成膜乳液：37.0～39.0％；颜料：5.07～6.20％；滑石粉：6.50～7.50％；水化硅酸钙粉体：10.15～11.0％；成膜助剂：0.38...
- 水化硅酸钙纳米涂料及其生产方法
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申请号：CN200510008926.6
申请日：20050225
申请人：重庆大学
浏览量：0 - 摘要：一种水化硅酸钙纳米涂料及其生产方法，含有以下按质量百分数计算含量的组分：成膜乳液：37.0～39.0％；颜料：5.07～6.20％；滑石粉：6.50～7.50％；水化硅酸钙粉体：10.15～11.0％；成膜助剂：0.38...