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一种氮化铝钛介质层低辐射薄膜及其制备工艺
申请号：CN201210347572.8
申请日：20120919
申请人：重庆大学
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摘要：
一种氮化铝钛介质层低辐射薄膜及其制备工艺，属于功能薄膜技术领域。本发明采用磁控溅射法制备一种氮化铝钛介质层低辐射薄膜，其膜层结构从衬底基片往上依次为：内层氮化铝钛介质层、银层、外层氮化铝钛介质层。该膜层可见光透过率高，红...
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